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          靶材

                  目前FPD所用的ITO烧成的靶材应该是单一的三氧化二铟相结构。所采用的工艺基本上是热等静压和热压,这是目前国际上生产ITO靶材的主流工艺,韩国目前三星一家,其技术主要来源于日本,产品一部分采用STN,但主要用于TFT液晶生产,但其产品仍有缝隙(空洞)。我们的钼铌合金靶材可以避开这个不足。

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